霍梅爾W10粗糙度儀技術(shù)咨詢的詳細資料：

霍梅爾W10粗糙度儀技術(shù)咨詢

-導(dǎo)頭型傳感器，zui長探測距離 17.5mm，截止波長0.25 / 0.8 / 2.5 / mm
-40種符合DIN EN ISO 4287、DIN EN ISO 13565、ISO 12085 和 JIS B601 MOTIF 的表面粗糙度參數(shù)。
-7 種帶單獨測量或評估條件的測量程序
-4.3 "(11 cm)彩色顯示屏
-顯示參數(shù)、曲線、材料支撐率曲線和統(tǒng)計數(shù)據(jù)
-具備快速裝紙功能的一體式打印機
-每個測量程序可存儲2000個讀數(shù)和500條曲線
-用于計算機連接的USB接口
-有線或無線操作
-顯示語言：德語，英語，西班牙語，法語，意大利語，波蘭語，葡萄牙語，瑞典語，俄語，漢語
 

技術(shù)規(guī)格:
 

測量范圍-210 ... +110μm（320μm）
按鈕感應(yīng)滑扣按鈕T1E：2μm/ 90°
測量單位可選擇μm/μ
zui大。橫穿17.5毫米
根據(jù)ISO / JIS 1.5 / 4.8 / 15mm的運行
根據(jù)MOTIF 0.64 / 3.2 / 16 mm的運動
截止0.08 / 0.25 / 0.8 / 2.5mm
采樣長度1 ... 5可選
過濾器DIN EN ISO 11562：高斯濾波器
DIN EN ISO 16610-21：高斯濾波器
DIN EN ISO 13565-1：過濾Rk參數(shù)
DIN EN ISO 3274：λs過濾器
鍵控速度vt 0.15 / 0.5 / 1 mm / s;返回3 mm / s
數(shù)據(jù)點間距zui小0.5μm（9600點，= 4.8 mm）
尺寸特性DIN EN ISO 4287 Ra，Rz，Rmax，Rt，Rq，RSm，Rp，Rv，Rq，Rsk，Rku，Rdc，Rdq，RzISO，Rmr，Rmr（c），C（Rmr）霸
尺寸特性DIN EN ISO 13565-1，-2 Rk，Rpk，Rvk，Mr1，Mr2，A1，A2，Rpk *，Rvk *
尺寸特性MOTIF ISO 12085 R，AR，Rx，CR，CL，Nr，CF
尺寸特性ASMB46 Rpm
尺寸特性JIS B601（2001）Rz-JIS
尺寸特性DIN EN 10049 RPc
尺寸特征戴姆勒MBN 31007 R3z
電池（基本單元）鋰離子充電電池，
800個測量周期
（無表情，追蹤長度4.8mm）
測量程序7個測量程序，
1儀器檢測測量程序
數(shù)據(jù)存儲2000測量數(shù)據(jù)集/尺寸特征，
500個配置文件記錄
接口USB，藍牙
尺寸224 x 226 x 70 mm（粗糙度測試儀W10）
151 x 50 x 55 mm（進給LV17）
重量980克（粗糙度測試儀W10）
275克（飼料LV17）
集成打印單元
印刷工藝靜電熱電池
紙張/印刷寬度57±0.5 mm / 48 mm
紙卷Ø= 31 mm
分辨率8分/ mm，384點/線
打印功能測量條件，尺寸特征，粗糙度輪廓，雅培曲線，統(tǒng)計

You have a choice. Our range of products include measuring stations for roughness measurements (incl. topography) and contour measurement as well as combined systems for roughness and contour measurement, all of which are available with either separate or integrated probing systems. Our pre-configured systems are designed to cover the most common measurement tasks. For non-standard measurements, a wide range of system accessories are available allowing system customization for a whole host of measurement tasks. Of course, we can also offer you measuring stations that are tailored to your specific requirements. You benefit from our expertise and long history of experience in the design of innovative, high-precision measuring systems.