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Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀電解測(cè)量原理

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀電解測(cè)量原理

更新時(shí)間:2017-06-20
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Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀電解測(cè)量原理
4種不同類型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類的被測(cè)物體。
測(cè)量臺(tái)V18有1個(gè)新的測(cè)量槽設(shè)計(jì)。由于在每次測(cè)量后有一個(gè)泵會(huì)自動(dòng)地排出電解液至儲(chǔ)液箱內(nèi),也就不再需要手動(dòng)清空測(cè)量槽了,一次注滿測(cè)量槽就可以多次測(cè)量。
測(cè)量臺(tái)V24允許靈活定位小工件。
測(cè)量臺(tái)V26主要為簡(jiǎn)單和平面形狀的物體而設(shè)計(jì)。

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀電解測(cè)量原理的詳細(xì)資料:

品牌Helmut Fischer/德國(guó)菲希爾

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀電解測(cè)量原理

 

 

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀測(cè)量版本

4種不同類型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類的被測(cè)物體。

測(cè)量臺(tái)V18有1個(gè)新的測(cè)量槽設(shè)計(jì)。由于在每次測(cè)量后有一個(gè)泵會(huì)自動(dòng)地排出電解液至儲(chǔ)液箱內(nèi),也就不再需要手動(dòng)清空測(cè)量槽了,一次注滿測(cè)量槽就可以多次測(cè)量。

測(cè)量臺(tái)V24允許靈活定位小工件。

測(cè)量臺(tái)V26主要為簡(jiǎn)單和平面形狀的物體而設(shè)計(jì)。

測(cè)量臺(tái)V27主要為在線材上測(cè)量而設(shè)計(jì)。

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀特性:

吸引人的設(shè)計(jì),大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。

操作簡(jiǎn)單,菜單指引的操作提示。

電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。

大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層,包括測(cè)量線材。

COULOSCOPE CMS STEP 測(cè)量原理:

測(cè)量原理 這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面 積保持不變,鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 
 
  測(cè)量印刷線路板上剩余純錫的厚度 
下面的公式適用于通過庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度: 
d:   
鍍層厚度 [µm] 
eÄ: 
電化學(xué)當(dāng)量 [g/As] 
I:    
電解電流 [A] γ:    電解效率
 t:    電解時(shí)間 [s] A:   電解面積 [cm2] ρ:   電解鍍層材料密度 [g/cm3] 
 
 
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測(cè)量 面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制, 用一 個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕,保證電 解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小,各種直徑的墊圈 可供選擇。 


COULOSCOPE CMS基本配置:
儀器:            Couloscope CMS
測(cè)量臺(tái):          V24、V26、V18 等
電解液:          F1 ~ F22
COULOSCOPE CMS特征:
標(biāo)準(zhǔn):DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504

模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 KΩ
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg 
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D  mm

 

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