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菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

更新時間:2018-01-04
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菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀
COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測厚儀
4種不同類型的測量臺適合于測量各種種類的被測物體。
Couloscope CMS2 STEP 庫侖測電位差測厚儀

菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀的詳細資料:

品牌Helmut Fischer/德國菲希爾價格區(qū)間1千-5千

菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

 


特性:
    吸引人的設(shè)計,大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。

    操作簡單,菜單指引的操作提示。
    電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
    大約100個預先定義好的應用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層,包括測量線材。

 
  測量印刷線路板上剩余純錫的厚度 
下面的公式適用于通過庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度:  
 
測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測量 面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決定。對不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制, 用一 個泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕,保證電 解液*利用。 根據(jù)測量區(qū)域的大小,各種直徑的墊圈 可供選擇。 


 
菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

校準 校準時會產(chǎn)生一個修正系數(shù) 。這是由于測量槽密封墊子的制造公差、鍍層密度的變化、合金成分的變化,需要該修正系數(shù)。
 
 作為測量鍍層厚度zui簡單的方法之一,庫侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結(jié)構(gòu), 當允許破壞性測量時,它提供了一個比X射線更經(jīng)濟的替代方法。 應用 強大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗。
 
 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡單快速地測量。這個方法為任何金屬鍍層提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi), 很多材料不需要預設(shè)定;基材組成和幾何形狀對于測量都是無關(guān)緊要的。
 
 zui常見的應用之一就是測量線路板上剩余的純錫,以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料(ABS)基材上,經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品,也可以用這個方法進行測量。
 
 測量原理 這個系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要剝離的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面積保持不變,鍍層厚度與電解時間就是成正比的關(guān)系。
 
 測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測量面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由COULSCOPE儀器的電子部分控制, 用一個泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕,保證電解液*利用。 根據(jù)測量區(qū)域的大小,各種直徑的墊圈 可供選擇。
 
 STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來同時測量電位差和多層鎳的鍍層厚度,該方法是這個應用領(lǐng)域的標準。 應用
 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個目的而設(shè)計的,它操作簡單,參比電極使用起來也不復雜,非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應用
 
 電鍍鎳層用作電解保護和提高機器表面屬性,如硬度等。 特別是汽車工業(yè)中,電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無法滿足該要求。因此,目前正在開發(fā)非常復雜的鍍層系統(tǒng),其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層,還有鉻或銅鍍層。
 
 測量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)(同時測量鍍層厚度和化學電位差)的簡寫,是已經(jīng)標準化很久的測量方法。它可以同時測量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學電位差。 厚度測量時用庫侖法來測量,電位差通過外面鍍一層AgCl的銀參比電極來測量。電壓曲線可以顯示在屏幕上,鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測量結(jié)果,參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個問題通過特殊的測量槽得到解決。
 
 銀參比電極被設(shè)計成一個圓錐形的環(huán)狀電極,并作為測量槽底部的外殼與測量槽蓋連接。測量槽的設(shè)計保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。

 

 

COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測厚儀
4種不同類型的測量臺適合于測量各種種類的被測物體。

Couloscope CMS2 STEP 庫侖測電位差測厚儀

測量原理 

這個系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過在控制電流條件 下電解腐蝕--------實際上就是電鍍的反過程。所載入的電 流與要剝離的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面 積保持不變,鍍層厚度與電解時間就是成正比的關(guān)系。 

 

作為測量鍍層厚度zui簡單的方法之一,庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結(jié)構(gòu), 當允許破壞性測 量時,它提供了一個比 X 射線更經(jīng)濟的替代方法。 

很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡單快速地測量。這個方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi), 很多 材料不需要預設(shè)定;基材組成和幾何形狀對于測量都 是無關(guān)緊要的。 
 
zui常見的應用之一就是測量線路板上剩余的純錫,以確 保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料(ABS) 基材上,經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品,也可以用這個 方法進行測量


COULOSCOPE CMS基本配置:

儀器:            Couloscope CMS
測量臺:          V24、V26、V18 等
電解液:          F1 ~ F22

COULOSCOPE CMS特征:
標準:DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504

模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 KΩ
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg 
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D  mm


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